四塩化ケイ素

SiCl4

SiCl4 四塩化ケイ素

近年、中国のポリシリコン生産は幾何学的発展を見せているが、副産物であるポリシリコンの廃棄はケイ素四塩化物はポリシリコン産業の発展の「敷居」を踏み越えることが困難になっており、シリコン産業に高汚染の帽子をかぶらせています。業界の生産推定によれば、この改善されたプロセスでは、塩化シリコン 10 ～ 15 トンごとに 1 トンのポリシリコンが生産されます。これは、少なくとも年間 100 万トンの四塩化ケイ素が生産されることを意味します。大量の副産物をどのように処理して効果的に利用し、環境汚染を軽減するかは、ポリシリコン生産企業が直面する共通の問題となっています。

四塩化ケイ素

四塩化ケイ素の精製において、ホウ素は除去が最も困難な不純物です。研究者らは四塩化ケイ素からホウ素を除去する化合物法を提案しており、満足のいく結果が得られ、工業生産に広く使用されています。錯体法の適用の鍵は錯化剤の選択にあり、錯化剤はより安定な錯体を形成できる塩化ホウ素と反応する必要があり、錯化剤は四塩化ケイ素や塩化物とは反応できません。上記の要件に基づいて、研究者は多数の実験を実施し、最終的にピロールジチオカルバミン酸ナトリウム四水和物が効率的な錯化剤であることを発見しました。

反応過程

四塩化ケイ素低温水素化技術

塩素水素化技術は、低温水素化技術に基づいてHClを加えて反応温度をさらに下げ、トリクロロシランの収率を高める技術です。塩素水素化反応の原理は次のとおりです。 2SiCl4(g)+H2(g)+HCl(g)+Si(s)=3SiHCl3(g) .水素プラズマは、水素放電によって生成され、これは反応炉に送られ、四塩化ケイ素ガスと反応します。水素は水素原子に解離するため、反応性が大幅に高まり、四塩化ケイ素と容易に反応してトリクロロシランを形成します。接触水素化は、四塩化ケイ素と水素の混合物を、触媒を充填したモレキュラーシーブに通すことによってトリクロロシランを製造する技術です。反応原理は次のとおりです

反応フローチャート

四塩化ケイ素のトリクロロシランへの水素化

四塩化ケイ素の高温水素化は、ポリシリコンの副生成物である四塩化ケイ素を処理する重要な方法です。高温水素化は、四塩化ケイ素と水素を原料とし、1200～1250℃のグラファイトヒーターで加熱し、熱還元反応によりトリクロロシランを生成します。このプロセスの利点は、システム全体が閉鎖循環であり、連続的で安定した操作に適していることです。トリクロロシラン高純度の製品は、蒸留リンクが少なくて済みます。欠点は、反応を 900 ～ 1400℃ またはそれ以上の温度と 1 ～ 35MPa の高圧で行う必要があり、エネルギー消費が大きいことです。反応器の加熱装置は等方グラファイトベルトであるため、

反応過程

SiCl4の将来の発展を積極的に探る

四塩化ケイ素は、有機ケイ素合成およびポリシリコン製造のプロセスにおける重要な原料および中間生成物です。さまざまな環境条件下で、四塩化ケイ素はさまざまな物質と反応して新しい物質を生成することができます。たとえば、四塩化ケイ素はアルコールやフェノールと反応してケイ酸塩を生成します。四塩化ケイ素を水素と反応させると、塩化シランなどが得られます。同時に、四塩化ケイ素は、高温絶縁塗料、シリコーン油およびその他のシリコーン化合物の製造原料として使用でき、精製された高純度四塩化ケイ素は、軍用、航空宇宙用のポリシリコンまたは光ファイバー材料を製造できます。冶金、化学工業、医療などの分野が適用されます

触媒の追加

四塩化ケイ素

固体吸着の基本原理は、化合物中の各成分の化学結合の極性の違いに基づいて吸着分離することです。四塩化ケイ素は双極子モーメントのない対称分子です。対照的に、BCl3、AlCl3、FeCl3、PCl3 などの含まれる不純物は、大きな双極子モーメントを持つ非対称分子であり、付加的な化学結合を形成する傾向が強く、吸着剤に吸着されやすいです。また、吸着剤（シリカゲル等）の表面は、水酸化物基を持っているため、イオン性化合物や加水分解されやすい化合物を吸着しやすくなります。固体吸着法は、精留法では困難であった極性の強い不純物を除去することができます。四塩化珪素に有効な吸着剤としては、各種活性炭、

その他のパッケージ

四塩化ケイ素蒸留プロセス

蒸留は、SiCl4 を使用し、不純物成分の相対揮発度の差を利用して、いくつかの部分ガス化および部分凝縮プロセスを経て、混合液体の分離を達成し、高純度の四塩化ケイ素製品を取得します。この方法には、簡単な操作、高度な自動化、連続形成、高収率という利点がありますが、SiCl4 と BCl3、AlCl3、FeCl3、PCl3 およびその他の極性不純物の相対揮発性を伴う不純物を除去することは困難です。||| | |一般的に使用される蒸留塔には、篩板塔と充填塔がありますが、精製時の四塩化ケイ素の混入を避け、精製効果を高めるためには、高純度のステンレス製や石英ガラス製の塔設備が好ましいです。何氏は、

SiCl4 パッケージ

SiCl4 は重要な無機ケイ素化合物です

SiCl4 は最も重要な無機ケイ素化合物の 1 つで、無色透明で流れる煙の液体で、窒息臭があり、ベンゼン、エーテル、クロロホルム、その他のほとんどの有機溶媒に溶けます。四塩化ケイ素は揮発性の液体で、強い窒息臭があります。ガス状シリカ、高純度シリコン、有機シリサイドの原料として使用できます。四塩化ケイ素産業チェーンの上流は、主にケイ素粉末、フェロシリコン、塩化水素などの原材料市場です。四塩化ケイ素の下流には、シリコーンエステル、繊維プレハブロッド、ホワイトカーボンブラックなどの製品が含まれます。繊維プレハブロッドの市場需要の発表に伴い、高純度繊維グレードの四塩化ケイ素の市場需要が増加し、

四塩化ケイ素

四塩化ケイ素のアプリケーション

トリクロロシランの主な副産物である四塩化ケイ素は、シリコーン製造の主な原料でもあり、その最終製品は、シリコーンエステル、シリコーンオイル、高温絶縁塗料、シリコーン樹脂、シリコーンゴム、および耐熱クッションライニング材料です。高純度四塩化ケイ素は、高純度二酸化ケイ素、無機ケイ素化合物、石英ファイバー、光ファイバーを製造するための重要な原料でもあります。

高純度四塩化ケイ素

高純度四塩化ケイ素

化学式がSiCl4である四塩化ケイ素は無機化合物であり、塩化ケイ素はSiCl4の形でのみ存在するため、四塩化ケイ素はそのままシリコン塩化ケイ素とも呼ばれる。この製品の外観は淡黄色の液体であり、高純度の四塩化ケイ素の外観は無色透明の液体であり、揮発性であり、特別な臭気、毒性および腐食を伴う。四塩化ケイ素は、ベンゼン、クロロホルム、エーテル、四塩化炭素および他の有機溶媒と混和することができる。それは湿気の多い空気中で加水分解され、水と激しく反応することができます。製品はケイ酸と塩化水素です。

電子グレード四塩化ケイ素

電子グレード四塩化ケイ素

四塩化ケイ素は重要な化学原料であり、インク、塗料、樹脂、ゴム、薬、グリースなどの分野で広く使用されている高純度シリコン、シラン、シリコーンエステル、シリコーンオイル、シリカゲル、その他の製品を製造するために広く使用されています。四塩化ケイ素は、通信、太陽光発電、光機器および他の応用分野で、光ファイバ、ポリシリコン、二酸化ケイ素などを製造するためにも使用することができる。さらに、四塩化ケイ素は、軍事分野、冶金学、鋳造および他の分野でも使用することができる。

光ファイバグレード四塩化ケイ素

光ファイバグレード四塩化ケイ素

四塩化ケイ素は、主にシリコーンエステル、ガス状シリカ、シリコーンモノマー、シリコーンオイル、高温絶縁塗料、シリコーン樹脂、シリコーンゴムなどの製造に使用されます。高純度の四塩化ケイ素は、ファイバープレハブロッドを製造するための主な原材料であり、ファイバープレハブロッドの品質は、ファイバーの性能を直接決定します。したがって、高純度の四塩化ケイ素は繊維産業の中核原料です。ビッグデータ、人工知能、5G、モノのインターネットなどの産業の急速な発展に伴い、光ファイバーの世界的なカバー率は常に向上しています。

SiCl4

SiCl4 四塩化ケイ素

SiCl4 四塩化ケイ素

四塩化ケイ素

四塩化ケイ素

反応過程

四塩化ケイ素低温水素化技術

四塩化ケイ素低温水素化技術

反応フローチャート

四塩化ケイ素のトリクロロシランへの水素化

四塩化ケイ素のトリクロロシランへの水素化

反応過程

SiCl4の将来の発展を積極的に探る

SiCl4の将来の発展を積極的に探る

触媒の追加

四塩化ケイ素

四塩化ケイ素

その他のパッケージ

四塩化ケイ素蒸留プロセス

四塩化ケイ素蒸留プロセス

SiCl4 パッケージ

SiCl4 は重要な無機ケイ素化合物です

SiCl4 は重要な無機ケイ素化合物です

四塩化ケイ素

四塩化ケイ素のアプリケーション

四塩化ケイ素のアプリケーション

高純度四塩化ケイ素

高純度四塩化ケイ素

高純度四塩化ケイ素

電子グレード四塩化ケイ素

電子グレード四塩化ケイ素

電子グレード四塩化ケイ素

光ファイバグレード四塩化ケイ素

光ファイバグレード四塩化ケイ素

光ファイバグレード四塩化ケイ素

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