四塩化ケイ素のトリクロロシランへの水素化

四塩化ケイ素の高温水素化は、ポリシリコンの副生成物である四塩化ケイ素を処理する重要な方法です。高温水素化は、四塩化ケイ素と水素を原料とし、1200～1250℃のグラファイトヒーターで加熱し、熱還元反応により トリクロロシランを生成します。  

このプロセスの利点は、システム全体が閉鎖循環であり、連続的で安定した操作に適していることです。トリクロロシラン 高純度の製品は、蒸留リンクが少なくて済みます。欠点は、反応を 900 ～ 1400℃ またはそれ以上の温度と 1 ～ 35MPa の高圧で行う必要があり、エネルギー消費が大きいことです。反応器の加熱装置は等方グラファイトベルトであるため、高温高圧条件下でメタンやその他のガスを形成しやすく、閉回路サイクル生産でポリシリコンに炭素汚染をもたらします。