四塩化ケイ素蒸留プロセス

蒸留は、SiCl4 を使用し、不純物成分の相対揮発度の差を利用して、いくつかの部分ガス化および部分凝縮プロセスを経て、混合液体の分離を達成し、高純度の四塩化ケイ素製品を取得します。この方法には、簡単な操作、高度な自動化、連続形成、高収率という利点がありますが、SiCl4 と BCl3、AlCl3、FeCl3、PCl3 およびその他の極性不純物の相対揮発性を伴う不純物を除去することは困難です。||| | |一般的に使用される蒸留塔には、篩板塔と充填塔がありますが、精製時の四塩化ケイ素の混入を避け、精製効果を高めるためには、高純度のステンレス製や石英ガラス製の塔設備が好ましいです。 

何氏は、光ファイバー用の高純度四塩化ケイ素の連続蒸留法を提案した。粗いSiCl4を介して、最初に除染用の除染コンポーネントタワーに入り、次に得られたタワータンクタンクから材料を取り出して除染用の除染タワーに入れ、最後にサイドラインで光ファイバー用の高純度グレードのSiCl4を取得します。この方法は、ポリシリコン生産においてSiCl4をリサイクルし、連続的かつ安定的な生産を実現できるため、大規模な工業生産に適しています。